Ионная имплантация

Как обсуждалось выше, в установках ионной имплантации имеют место большие водородные нагрузки из-за разложения фоторезиста на кремниевых пластинах под действием ионного луча с большой энергией. Некоторая дополнительная водородная нагрузка может появляться от самого ионного источника, хотя она обычно является сравнительно небольшой. На установке имплантации с высоковакуумным насосом на загрузочном шлюзе график регенерации крионасоса будет определяться исключительно водородной нагрузкой. При равенстве всего остального получаемый водород пропорционален току луча или общей дозе имплантата. Водородная нагрузка также повышается при увеличении энергии (напряжения) луча. Ионный луч также вызывает диссоциацию фоторезиста на тяжелые углеводороды и другие клейкие побочные продукты, которые постепенно мигрируют в крионасос. Установки ионной имплантации без высоковакуумных насосов на загрузочных шлюзах подвержены более высоким нагрузкам водяного пара на конечной стадии.

По этим причинам для установок имплантации были разработаны специальные криогенные насосы. Массивы криопанелей первой и второй ступеней были оптимизированы для более высоких быстроты откачки и сорбционной емкости по водороду. Используются уникальные программы регенерации для выдувания всего водорода, удаления воды и побочных продуктов фоторезиста. Насосы установки имплантации представляют собой особые трудности во время выполнения процедур капитального ремонта и технического обслуживания, поскольку скопившиеся отложения в насосах могут содержать опасные количества мышьяка, бора или фосфора. Возвращаемые для сервисного обслуживания насосы следует тщательно упаковать и четко маркировать для того, чтобы указать присутствие опасных материалов. Как правило, детали массивов этих насосов должны утилизироваться при строгом соблюдении контроля за опасными материалами, также следует подвергать обработке моющие жидкости (воду и растворители).