Ионное распыление

Для металлизации полупроводниковых пластинок алюминием или титаном осаждение распылением является наиболее подходящей технологией. Слои оксида и нитрида также распыляются. Крионасосы в этих видах применения работают достаточно эффективно благодаря свойственной им чистоте, надежности и высокой быстроте действия как по водяному пару, так и по технологическим газам. Поскольку ионное распыление обычно осуществляется в пределах (1—5) *10-3 Торр, газовый поток увеличивается для повышения давления в камере до желаемого уровня. Для плотно подсоединенного насоса быстрота откачки аргона 120 л/с потребовала бы потока величиной 285 см’/мин (3,6 Торр-л/с) для поддержания давления 3 * 10 -1 Торр. Для увеличения продолжительности периода между регенерациями и сокращения расходов на технологический газ используются ограничители проводимости для уменьшения потока газа до диапазона 50-150 см3/мин [11].

Теплый (комнатная температура) ограничитель проводимости, например перегородка в порте откачки перед вакуумным затвором, уменьшает скорость водяного пара, а также поток технологического газа приблизительно на то же самое соотношение. Альтернативой этому является использование пластины ионного распыления. Пластина ионного распыления заменяет шевронный массив криопанелей при 65 К с плоской медной пластиной, имеющей некоторое количество малых отверстий. При значениях давления ионного распыления отверстие с диаметром 13 мм имеет проводимость аргона, равную приблизительно 20 л/с. Посредством выбора пластины с соответствующим количеством, размером и расположением отверстий достигается более низкая общая быстрота откачки аргона при сохранении максимальной быстроты откачки водяного пара. Широко распространенной является практика сокращения быстроты откачки аргона до 20-40% базовой быстроты откачки. Хотя в результате этого также уменьшатся значения быстроты откачки воздуха (кислорода и азота), отмечается незначительное негативное воздействие на откачку камеры, поскольку водяной пар является главной газовой нагрузкой в это время. Значения быстроты откачки водорода несколько уменьшаются пластиной распыления, но не в такой же пропорции, как значения быстроты откачки аргона.

Ионное распыление с помощью высокомощных источников магнетрон РЧ в кислороде или богатых кислородом газовых смесях следует избегать, если применяются крионасосы. Создание атомного кислорода и возбужденных состояний 02 приводит к образованию озона в кислородном льде, сконденсировавшемся на второй ступени. При низких концентрациях озона газы, выпущенные из насоса во время регенерации, могут быть раздражающими или токсичными. При определенных технологических условиях, которые не являются четко определенными или ограниченными, происходит более эффективное образование озона. Вероятность самопроизвольного возгорания или взрыва во время регенерации увеличивается в силу каталитической реакции мелкой пыли от распыленного реактивного металла и жидкого озона. Криогенные насосы, накапливающие кислород, или другие химически активные, а также пожароопасные газы должны подвергаться регенерации как можно чаще.

Нет товаров, соответствующих выбору

Страница в разработке - прямо сейчас здесь нет актуальных товаров, соответствующих вашему выбору.
Но у нас есть эта техника. Поэтому свяжитесь с нами по телефону или Email за информацией.